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1200℃开启式管式炉 高温真空炉，以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层炉壳间配有风冷系统，有效降低炉壳表面温度；适用于高校、科研院所、工矿公司做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火等。

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1200℃小型开启式真空管式炉采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层壳体结构，设计合理，外形美观，结构紧凑；双层炉壳间配有风冷系统，有效保证外壳表面温度；真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。

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1700℃精密真空气氛管式炉采用触摸屏控制系统，一键智能化操作，图文界面操作更便捷；高真空级法兰密封，结合我司标准真空、混气系统，可抽真空通气氛。适用于高校、科研院所、工矿公司做高温气氛烧结、气氛还原、颁痴顿实验、真空退火等。

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1400℃精密真空气氛管式炉采用触摸屏控制系统，一键智能化操作，图文操作界面更便捷；高真空级法兰密封；长期使用不断裂、垮塌；炉体为双层炉壳，配有风冷系统，有效保证外壳表面温度。

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1200℃五温区开启式管式炉采用智能化程序温控系统，可控硅控制，控温精度高；双层炉壳间配有风冷系统，有效降低外壳表面温度；开启式炉盖设计，可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温；内置五个加热温区，可以营造不同的温度梯度。

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1200℃叁温区开启式管式炉，采用智能化程序控温系统，可控硅控制，控温精度高；双层炉壳间配有风冷系统，有效降低外壳表面温度；开启式炉盖设计，可在高温情况下观察物料反应情况并实现迅速降温；真空级法兰密封；内置三个温区，可以营造不同的温度梯度。